Produkt Core

High Purity ISO Graphite wurdt makke fia Cold Isostatic Pressing (CIP) om 3D unifoarme ferdichting te berikken ûnder ultra-hege druk (140–200 MPa). Makke fan petroleumkoks suvere op mear dan 2500 graden, it toant tichtby -teoretyske tichtens en treflike isotropy, en soarget foar stabile prestaasjes yn ferskate tapassingen.

Technyske parameters

Parameter	Key Wearde
Tichtheid	1,80-1,92 g/cm³
Ash ynhâld	Minder as of gelyk oan 100 ppm
Anisotropy Ratio	1.0–1.05
Coefficient of Thermal Expansion (CTE)	4.2–5.0 × 10⁻⁶/K (RT–400 graden)
Purity	C Grutter as of lyk oan 99,9%
Thermyske konduktiviteit	110–130 W/(m·K)
Flexural Strength	55-85 MPa

Produkten stypje personaliseare maatwurk.

Core Features

Ultra-hege suverens: Ultra-lege jiske/metaalûnzuiverheden (Fe, Ca, Na), ICP-MS ferifiearre, passe ûnreinheden-gefoelige fjilden.
Excellent tichtens: hege bulk tichtens, lege porosity, it stimulearjen fan de termyske conductivity en meganyske kapasiteit.
Isotropy: Minimale ferskillen yn termyske útwreiding / flexural sterkte oer rjochtings.
Ekstreme waarmtebestriding: Stabyl by hege temperatueren yn inerte atmosfearen (coating nedich yn oksidearjende omjouwings boppe spesifike temperatueren).
Termyske skokbestriding: ferset rappe temperatuerferoaringen sûnder te kraken.
Precision machinability: High Purity ISO Graphite hat strakke tolerânsjes en kin wurde ferwurke yn komplekse dielen (turbine skiven, kroes).

Key Applications

Semiconductor: Monokristallijne termyske komponinten fan silisiumofen/waferdragers (heechtemperatuer-resistinsje, ultra-lege ûnreinheden).
Photovoltaic: Polysilisium ingot kroesen / kachels (resist silisium melt eroazje).
Kearnenerzjy: Hege-temperatuer gas-gekoelde reaktorneutronenreflektors (meet nukleêre-klasse spesifikaasjes).
Aerospace: Rocket nozzle throat ynserts / raketfinnen (resistearje ekstreem hege -temp ablaasje).
Hege-metallurgy: smeltkroezen fan titaniumlegering (herbrûkber, gjin lekkage).
Yndustriële apparatuer: EDM-elektroden/ofenkaaidielen mei hege-temperatuer.

Sertifikaasje en oanpassing

High Purity ISO Graphite foldocht oan SEMI F76 (semiconductor), ISO 8005 (nukleêre), EN 10298 / ASME BPVC (feiligens), en RoHS 3.0 (miljeu) noarmen. Oanpaste tsjinsten omfetsje: silicidaasje (om oksidaasjebestriding te ferbetterjen), sekundêre ympregnaasje (om tichtens te stimulearjen), en ultra-optimalisaasje fan fynstruktuer (om taaiens te ferbetterjen).